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正性 负性 光刻胶 G线,I 线通用 高附着性 适合干法刻蚀和湿法刻蚀 应用广泛

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产品
正性 负性 光刻胶 G线,I 线通用 高附着性 适合干法刻蚀和湿法刻蚀 应用广泛
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企业信息
深圳市启耀光电有限公司
企业认证
经营模式:
贸易型
企业类型:
其他
主营产品:
光刻胶,感光油墨,防爆油墨
公司地址:
产品目录
全部分类
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产品介绍
加工定制
种类
元素半导体
特性
生产 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列 AZ1500 高感光度 高附着性 适合湿法刻蚀工艺 成分稳定 应用广
用途
生产 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列 AZ1500 高感光度 高附着性 适合湿法刻蚀工艺 成分稳定 应用广 生产 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列
有效期至
长期有效
最后更新
2018-07-29 10:56
浏览次数
2458

深圳市启耀光电有限公司是一家服务于半导体和光电子行业的产品贸易及技术服务提供商。公司创立于2014年,已成为国内半导体、光电子行业、相关研究所和大学可以信赖的合作伙伴;公司秉持以忠诚态度对待新旧客户,以客户满意为导向,提供优质高效率的专业服务,导入以代理原厂产品为中心共用通路平台,提供产品行销及技术支援解决方案。我们期望成为一家经营高科技设备,相关设备配件,材料及技术整合服务的专业供应商。力求服务与营运的创新,公司与客户间*利益关系,以维持企业永续的竞争优势。

主要产品范围

1、 液晶面板(TFT)正型光刻胶

2、 触摸屏(Touch Panl)正型光刻胶,超黑矩阵(BM)黑胶,OC光刻胶,卷对卷(Roll to Roll)工艺光刻胶,柔性性路板光刻胶,FPC工艺用正胶

3、 倒装(Bumping)工艺光刻胶:适用于电镀铜(ECP)工艺,凸点下金属(UBM)工艺;重布线层(RDL)工艺;影像感测器封装(Copper/Au Piller bump)工艺光

4、 LED行业:台阶刻蚀(MESA)工艺正胶,蒸镀(Lift-off)工艺负胶,透明电极(TCL)工艺正胶,电流阻挡层(BCL)工艺正胶,钝化层(PV)工艺正胶,高压芯芯片(HV)工艺正胶。

5、 盖板行业:3D喷涂曝光型光阻油墨(黑白色),喷涂曝光纹理光阻油墨,喷涂曝光抗氢氟酸光阻油墨,水性防爆胶,变色光阻油墨;

6、 铜制程工艺:铜制程表面处理剂,铜腐蚀液,不伤金属(Ni,Al,Au,Ag等)去胶液

7、 其它配套试剂:高纯低杂质显影液,不伤金属(Ni,Al,Au,Ag等)去胶液, 不伤金属(Ni,Al,Au,Ag等)去腊液,洗边剂(EBR),不伤铝二氧化硅腐蚀液(BOE),光刻胶稀释剂,氧化铟锡(ITO)腐蚀液,SiO2抛光液,钻石抛光液,SiO2抛光清洗剂(不伤铝);

8、 其它配件:MOCVD外延设备配件(石英配件,钨钼配件,加热器,周边设备配套);刻蚀机和蒸发台等设备配件;

9、 生产制程辅助工具和材料:Tray盘,花篮,膜,针等


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工商信息*以下内容来自第三方启信宝提供
法定代表人
翁荣波
经营状态
存续
注册资本
500 万人民币
实缴资本
500 万人民币
统一社会信用代码
91440300088715819Q
组织机构代码
088715819
企业注册号
440301111697192
企业类型
有限责任公司
登记机关
深圳市市场监督管理局
成立日期
2014年11月19日
营业期限
2014年11月19日--5000年01月01日
核准日期
2022年04月07日
注册地址
深圳市龙华区大浪街道陶元社区鹊山工业区29栋302
经营范围
一般经营项目是:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED相关辅料及设备的研发与销售;货物及技术进出口。(法律、行政法规、国务院决定规定在登记前须经批准的项目除外),许可经营项目是:劳务派遣。