氧化铝研磨微粉 TWA 20系统氧化铝 不绣钢，石英玻璃，硬质玻璃的研抛

1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能 : 平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构 , 硬度高达莫氏九级 , 磨削力强 , 不易产生划痕 , 可得到高效率、高精度的被加工表面 , 有特殊设计的粒度分布 , 质量和日本 FUJIMI公司相当。
2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点
1）平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的**区别是：片状，硬度高，粒度均匀。
2）特点为：
A、形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间，如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍；
B、由于形状为平板状，故对于被磨对象（如半导体硅片等）来说不易划伤，合格品率可提高10%至15%，如半导体硅片，其合格品率一般能达到99%以上；
C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高，故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少，如果磨同样数量的产品，其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%；
D、与国外同类产品相比，质量达到或超过国外同类产品，品质已达到国际标准，但产品价格只有国外同类产品的60%--70%；
E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能，故加工的产品合格品率高，质量稳定，生产成本只有原来的50%-60%。（具体数据可见用户报告）
3、平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途 :
1）电子行业 : 单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛。
2）玻璃行业 : 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。
3）涂附行业 : 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。
4）金属和陶瓷加工业。
氧化铝(AL2O3)性能指标：
   物理指标：
  
化学名称 外观 密度 莫氏硬度 显微硬度
α- AL2O3 白色 3.95-3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm

 化学指标：
　　
化学成份 指标(%) 测度结果(%)
AL2O3 ＞99.0 99.36
SiO2 ＜0.2 0.027
Na2O ＜0.6 0.35
Fe2O3 ＜0.1 0.03

产品粒度：
粒度号 平均粒度(µm)
TWA50 44.5±2.5
TWA45 36.0±2.3
TWA40 31±2.0
TWA35 25.5±1.7
TWA30 21.5±1.5
TWA25 17.4±1.3
TWA20 14.2±1.0
TWA15 10.5±0.8
TWA12 8.2±0.6
TWA9 6.4±0.6
TWA5 4.7±0.5
TWA3 3.1±0.4

无锡中晶材料科技有限公司

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无锡中晶材料科技有限公司始建于2004年，公司座落在江苏无锡，主厂区占地16000多平方米，建筑面积10000多平方米，职工80人，公司拥有省级研发技术中心一个，其中工程师8人，大专及同等以上学历占67%。公司通过吸引国内外先进的技术与自主研发相结合，不断新。主要生产氧化铝研磨微粉、氧化铝抛光液及氧化铝辅料。多项产品获得国家发时、使用新型专利。公司拥有先进的制造设备和完善的检测手段 ，美国库尔特分析粒度仪、英国马尔文检测仪、含量测试仪、百特粒度分析仪器等进近八台专业精密制造设备与检测设备。为客户提供优质的产品，并可以按客户的要求设计加工。

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以人为本的经营理念

我们置员工的安全和身体健康为企业至高利益，竭尽所能保障员工的身体健康和安全，共享企业发展成果。

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我们坚信客户就是上帝，我们会为客户提供最热情的服务，**质的产品，***的价格，最完善的售后服务。对于客户的咨询与抱怨做到耐心的倾听，快速反应，解决到位。让我们的客户放心的使用我们的所有产品。

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以质量为根本的生产理念

质量是企业的立足之本，以质量为根本的生产理念是生产理念是企业名称所有员工的工作理念，确保不让一台有缺陷的设备流入市场，不让一台不完善的设备流入客户手中，**限度的提高 产品的合格率。

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以速度为中心的售后服务理念

公司售后部门在接到客户发来质量问题单之后，以最快的速度赶往客户产品现场，以最快的速度为客户排除故障，保障客户设备的正常运行。