用途：
铼靶材用于磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相（PVD）镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势，作为一项已经发展得较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。
规格：
规格：纯度Re≥99.99%~99.999%，形状、尺寸、密度接受各种定制产品。
免责声明：当前页为 厂家供应 高纯铼靶 各种溅射靶材产品信息展示页，该页所展示的 厂家供应 高纯铼靶 各种溅射靶材产品信息及价格等相关信息均有企业自行发布与提供， 厂家供应 高纯铼靶 各种溅射靶材产品真实性、准确性、合法性由店铺所有企业完全负责。世界工厂网对此不承担任何保证责任，亦不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷，纠纷由会员自行协商解决。
友情提醒：世界工厂网仅作为用户寻找交易对象，就货物和服务的交易进行协商，以及获取各类与贸易相关的服务信息的渠道。为避免产生购买风险，建议您在购买相关产品前务必确认供应商资质及产品质量。过低的价格、夸张的描述、私人银行账户等都有可能是虚假信息，请您谨慎对待，谨防欺诈，对于任何付款行为请您慎重抉择。
投诉方式：fawu@gongchang.com是处理侵权投诉的专用邮箱，在您的合法权益受到侵害时，请将您真实身份信息及受到侵权的初步证据发送到该邮箱，我们会在5个工作日内给您答复，感谢您对世界工厂网的关注与支持！
技术支持：世界工厂网
(c)2008-2024 世界工厂网V3.6 All Rights Reserved 豫ICP备2024066506号
