真空气氛炉箱式炉
一、真空气氛箱式炉概述：
真空气氛箱式炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。
二、真空气氛箱式炉特点
炉膛材料：采用陶瓷纤维材料，节能，升温速度快，高温不掉粉，炉管为高铝瓷管
采用智能控制仪，仪表采用模块化结构，EML抑制技术，模糊PID调节，具有抗干扰能力强，控制精度高，冲温值小。
双四位LED数码显示，加热功率光柱显示
具有手动/自动无干扰切换，控制参数自整定功能，具有温度补偿功能和温度较正功能。
可编程满足30个时段连续控温和恒温要求，实现定时自动升温和恒温。
真空系统采用**的专利型三级密封技术，真空度大，真空泄漏小，真空度可达-0.098Mpa
充分体现快速，准确，稳定，随意，人性化设计。
三、真空箱式炉规格型号
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设备型号 |
BSD-8-13 |
BSD-10-13 |
BSD-12-13 |
BSD -12-13 |
BSD-15-13 |
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**温度 |
1360℃ |
1360℃ |
1360℃ |
1360℃ |
1360℃ |
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控制精度 |
±1℃ |
±1℃ |
±1℃ |
±1℃ |
±1℃ |
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炉膛尺寸（mm） (W×H×L) |
200*200*500 |
300*300*630 |
300*300*1260 |
300*300*1470 |
300*300*1680 |
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发热元件 |
Φ12*650硅碳棒 |
Φ12*750硅碳棒 |
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真空度 |
66.6pa |
66.6pa |
66.6pa |
66.6pa |
66.6pa |
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冷态压升率 |
≦10～20pa/h |
≦10～20pa/h |
≦10～20pa/h |
≦10～20pa/h |
≦10～20pa/h |
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**功率 |
12Kw |
30kw |
60kw |
80kw |
100kw |
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温控方式 |
可控硅模块自控 |
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注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询。
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