E5000发射光谱仪拥有创新的高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的帕型-龙格全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术,同时结合时序分析、光谱自动校正等**技术,采用固体样品直接进样的方法,全面解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题,是光谱元素分析领域的重大突破。
电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合,新一代固体粉末分析技术
1.Paschen-Runge(帕型-龙格)全谱光学系统,能测定需要分析的所有常规元素
2.紧凑的小型台式设计,确保稳定可靠、易用便捷
3.防溢出CCD高速数采系统,信噪比高、动态范围大
4.高功率数控可编程光源,电流、电压、频率可控,提供更优的分析方法
5.多重连锁和监控,确保操作安全可靠
6.全自动电极激光对准系统
7.粉末样品直接进样,方便迅速
8.一键激发,立刻获得分析结果
9.内置工作曲线,客户无需手动建线,切实提高工作效率
10.软件开放所有**功能,为客户提供完美的方法开发平台
E5000发射光谱仪全谱测量技术
全谱平台拥有丰富的谱线信息,更易于元素扩展与方法开发
基于全谱测量的数据,能够正确区分背景和谱线,有效提高测量精度
- 方便查看谱线及干扰情况
- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式
强大的自动谱线去干扰算法
- 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线
- 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线完全分开,有效消除谱线的干扰
根据元素的含量范围选择不同的分析谱线,大含量范围的测量更准确
- 多谱线结合,扩展分析范围的同时,有效保证分析精度
- 避免灵敏线饱和,不需要消释样品,取得更大的分析范围
CCD高速数采系统
1.防溢出线阵CCD
2.采用动态积分,有效扩展CCD的动态范围
蓝线-CCD谱线 红线-PMT谱线
Paschen-Runge(帕型-龙格)全谱光学系统
1. 恒温型全固定光学系统
2.全反射式光路
3.光室结构紧凑
4.一体式固定
5.光学器件少,性能稳定
6. 基于CCD的全谱***和分析
全新一代电弧数控光源
数控光源体积小、效率高
基于数控可编程技术,光源的电流、电压、频率可调节
分析不同含量的元素,选择的激发参数,降低元素分析的检出线,改善元素分析的准确度
可设置及读取不同检测阶段的数据
一键激发及全自动对准电极
1.样品装载激发一气呵成,方便快捷
2.多元素同时分析,直接得到最终结果
3.设计精良的电极挟持旋钮
4.红外激光对准、**的电极激光自动对准技术
5.水冷电极夹提高检测稳定性
多重连锁和安全保护
1.可靠的水冷系统,分别对电弧光源和激发电极散热
2.时监控仪器的运行状态,所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒
3.界面上有关键温度的显示,**时间查看仪器的运行情况
4.排风监控,消除废气影响
5.特殊的风道设计提高稳定性
强大的分析软件
便捷易用的分析软件
-操作直观、便捷、层次化的软件界面,非专业人员也能方便操作
- 简单的方法开发过程,各种检测条件都可调节
强大的多元素分析平台
- 便捷的全谱查看
- 多元素分析及多谱线选择
- 一键激发,直接在软件上得到分析结果
- 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护
可分析元素及多谱线选择
全面智能的软件算法
- 内置工作曲线,完善的时序分析,能够实现定性、定量分析
- 丰富的处理技术,支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法
- 功能强大的**处理功能,为客户带来更全面、更**的分析体验
E5000发射光谱仪内置工作曲线及基底扣除
**的智能漂移校正技术
利用全谱丰富的谱线信息,自动完成仪器校正,使得分析数据更稳定
E5000发射光谱仪技术参数
光学系统 | Paschen-Runge(帕型-龙格)全谱光学系统 波长范围:190nm~680nm 多阵列式的高性能CCD检测器,具有深紫外检测能力 恒温式全固定光学系统,无任何运动部件 光谱范围:190nm-680nm |
激发光源 | 可编程数控电弧光源 电流、电压、频率可控,为不同分析目标提供的激发参数 水冷式的激光自动对准的光源系统 |
数采系统 | 基于DSP和FPGA技术的超高速数据***及控制功能 时序分析技术,实现更优化元素含量测量 高速以太网数据传输 |
电源和环境要求 | AC 220V±20V,50Hz 待机平均功率100VA 工作稳定:10℃~30℃ 工作湿度:20%~80% |
尺寸和重量 | 尺寸:770mm×625mm×520mm 重量:约80kg |
选配件 | 循环冷却水装置 交流参数稳压器 光谱纯石墨电极 主流配置品牌电脑 激光打印机 |
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