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二氧化锗靶材GeO2锗靶材Ge磁控溅射靶材

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产品
二氧化锗靶材GeO2锗靶材Ge磁控溅射靶材
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企业信息
北京晶迈中科材料技术有限公司
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产品介绍
品名
其他
牌号
靶材
产地
其他
锗含量≥
99.99%
铝含量≥
0.01%
杂质含量
0.01%
重量
0.05kg
有效期至
长期有效
最后更新
2021-04-14 11:49
规格
根据客户要求定制
浏览次数
208

科研实验专用二氧化锗靶材GeO2锗靶材Ge磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料


产品介绍

        二氧化锗(GeO2)为白色粉末或无色结晶,溶于碱中生成锗酸盐,有稍溶于水的六方晶系(低温稳定)和不溶性的正方晶系两种,转变温度为1033℃,电子式与二氧化碳相同。主要用于制金属锗,也用作光谱分析及半导体材料。

产品参数

中文名 二氧化锗    化学式 GeO2     

熔点 1115℃          密度 6.239g/ml

分子量 104.63       纯度 99.999%

产品介绍

       锗(Ge)单质是一种灰白色类金属,有光泽,质硬;属于碳族,化学性质与同族的锡与硅相近,不溶于水、盐酸、稀苛性碱溶液,溶于王水、浓硝酸或硫酸;具有两性,故溶于熔融的碱、过氧化碱、碱金属硝酸盐或碳酸盐,在空气中较稳定,粉末状的锗呈暗蓝色,结晶状为银白色脆金属。是重要的半导体材料。

产品参数

中文名 锗                元素符号 Ge

分子量 72.61           沸点 2820℃

熔点 938.3℃           密度 5.32g/cm3

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

本网站价格只做参考,期待您的垂询! 

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库



免责声明:当前页为 二氧化锗靶材GeO2锗靶材Ge磁控溅射靶材产品信息展示页,该页所展示的 二氧化锗靶材GeO2锗靶材Ge磁控溅射靶材产品信息及价格等相关信息均有企业自行发布与提供, 二氧化锗靶材GeO2锗靶材Ge磁控溅射靶材产品真实性、准确性、合法性由店铺所有企业完全负责。世界工厂网对此不承担任何保证责任,亦不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷,纠纷由会员自行协商解决。

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法定代表人
李大为
经营状态
存续
注册资本
200 万人民币
实缴资本
200 万人民币
统一社会信用代码
91110112MA009CFQ73
组织机构代码
MA009CFQ7
企业注册号
110112022362919
企业类型
有限责任公司(自然人独资)
登记机关
北京市工商行政管理局通州分局
成立日期
2016年11月04日
营业期限
2016年11月04日--2046年11月03日
核准日期
2016年11月04日
注册地址
北京市通州区张家湾镇北大化村东(北京五木服装有限责任公司)2幢二层B2256
经营范围
技术推广;技术开发;技术咨询;技术转让;销售金属材料、金属矿石、非金属矿石。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本区产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)