Picosun等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统 PICOPLASMA
Picosun公司新型PICOPLASMA™等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统是基于**的自由离子远程等离子源设计的，其性能已经得到世界范围内的诸多**研究团队的肯定。多种激发源（如氧、氢和氮等）配置能够***大化拓展ALD的工艺范围，尤其是低温沉积金属和金属氮化物薄膜。由于远程等离子源所产生的等离子体束流中离子的含量低，因此即使是***敏感的衬底，也不会出现等离子损伤，而等离子束流中含有高浓度的活性粒子，保证很快的生长速度。
PICOPLASMA™ 远程等离子体系统技术参数
· 对衬底无等离子损伤· 导电材料不会产生短路现象· 无前驱源背扩散→ 等离子发生器无薄膜形成· 等离子体点火期间无压力振荡→ 无颗粒形成· 等离子体源与衬底之间无闸门阀→ 无颗粒形成· 等离子体源材料无刻蚀→ 金属和氧化物薄膜低杂质· 简单和快速服务并通过维护舱口改变腔室· 无硬件修改使热ALD和等离子ALD工艺在同yi沉积腔室中进行成为可能
免责声明：当前页为 Picosun等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统产品信息展示页，该页所展示的 Picosun等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统产品信息及价格等相关信息均有企业自行发布与提供， Picosun等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统产品真实性、准确性、合法性由店铺所有企业完全负责。世界工厂网对此不承担任何保证责任，亦不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷，纠纷由会员自行协商解决。
友情提醒：世界工厂网仅作为用户寻找交易对象，就货物和服务的交易进行协商，以及获取各类与贸易相关的服务信息的渠道。为避免产生购买风险，建议您在购买相关产品前务必确认供应商资质及产品质量。过低的价格、夸张的描述、私人银行账户等都有可能是虚假信息，请您谨慎对待，谨防欺诈，对于任何付款行为请您慎重抉择。
投诉方式：fawu@gongchang.com是处理侵权投诉的专用邮箱，在您的合法权益受到侵害时，请将您真实身份信息及受到侵权的初步证据发送到该邮箱，我们会在5个工作日内给您答复，感谢您对世界工厂网的关注与支持！
(c)2008-2024 世界工厂网V3.6 All Rights Reserved B2-20151232
