Using plasma as heat source, Si + Al powder was heated to molten or semi molten state by a certain atmosphere protection device in atmospheric environment, and then compact coating was formed by high-speed impact on the surface of back pipe, so as to get high-purity, low oxygen content and high density sial target.
Purity: 99.999%
Aluminum content: 8-10%
Fe:≤350ppm
Ca:≤50ppm
Cu:≤50ppm
Mg:≤20ppm
Ni:≤20ppm
O:≤6000ppm
N:≤500ppm
Size: Φ 254 × 12mm or customers requirement
Density: 2.7g/cm3
Melting point: 660 ℃
Resistivity: ≤ 50 (m Ω. Cm)
Back pipe material: 304 / 316L stainless steel (non magnetic)
Application:
SiO2 film and Si3N4 film
Optical glass AR film
Low-E coated glass
Semiconductor electronic components
TFT-LCD
Flat panel display, touch screen glass
免责声明：当前页为 铝/硅靶 AlSi Target产品信息展示页，该页所展示的 铝/硅靶 AlSi Target产品信息及价格等相关信息均有企业自行发布与提供， 铝/硅靶 AlSi Target产品真实性、准确性、合法性由店铺所有企业完全负责。世界工厂网对此不承担任何保证责任，亦不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷，纠纷由会员自行协商解决。
友情提醒：世界工厂网仅作为用户寻找交易对象，就货物和服务的交易进行协商，以及获取各类与贸易相关的服务信息的渠道。为避免产生购买风险，建议您在购买相关产品前务必确认供应商资质及产品质量。过低的价格、夸张的描述、私人银行账户等都有可能是虚假信息，请您谨慎对待，谨防欺诈，对于任何付款行为请您慎重抉择。
投诉方式：fawu@gongchang.com是处理侵权投诉的专用邮箱，在您的合法权益受到侵害时，请将您真实身份信息及受到侵权的初步证据发送到该邮箱，我们会在5个工作日内给您答复，感谢您对世界工厂网的关注与支持！
技术支持：世界工厂网
电话：18426114113
地址：Block 4, No. 5, Torch Ave, Jiulongpo District, Chongqing,400080 China
(c)2008-2025 世界工厂网V3.6 All Rights Reserved 豫ICP备2024066506号
