用途
高纯钨靶和高纯钨钛合金靶、钨硅复合靶材通常被施以磁控溅射的方式制作各种复杂和高性能的薄膜材料。由于高纯钨或超纯钨（5 N或6 N）具有对电子迁移的高电阻、高温稳定性以及能形成稳定的硅化物，在电子工业中常以薄膜形式用作栅极、连接、过渡和障碍金属。高纯钨及其硅化物还用于大规模集成电路作为电阻层、扩散阻挡层等以及在金属氧化物半导体型晶体管中作为门材料及连接材料等。钨钛合金溅射靶材常用于制作薄膜系太阳能电池的过渡金属层。
规格描述
名称 | 分子式 | 规格 | 尺寸 | 相对密度 | 晶粒度 | 缺陷率 | |
纯钨靶 | W | 4N（99.99%） | 英寸 | 毫米 | ≥99% | ≯50µm | 0 |
5N（99.999%） | D（6,8,10,12） H（0.25,0.5,0.75） | 径150～350 厚度6～25 | |||||
钨钛靶 | WTi10 | 4N（99.99%） | ≥99% | ≯50µm | 0 | ||
4N5（99.995%） | |||||||
根据使用目的不同，对高纯钨靶和钨钛靶杂质含量有不同要求，一般要求化学纯度在99.99%～99.999%之间，我们也可根据用户要求特别定制适合应用的其它规格。
免责声明：当前页为 欧泰稀材 5N级 高纯钨靶 高性能的钨溅射镀膜材料产品信息展示页，该页所展示的 欧泰稀材 5N级 高纯钨靶 高性能的钨溅射镀膜材料产品信息及价格等相关信息均有企业自行发布与提供， 欧泰稀材 5N级 高纯钨靶 高性能的钨溅射镀膜材料产品真实性、准确性、合法性由店铺所有企业完全负责。世界工厂网对此不承担任何保证责任，亦不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷，纠纷由会员自行协商解决。
友情提醒：世界工厂网仅作为用户寻找交易对象，就货物和服务的交易进行协商，以及获取各类与贸易相关的服务信息的渠道。为避免产生购买风险，建议您在购买相关产品前务必确认供应商资质及产品质量。过低的价格、夸张的描述、私人银行账户等都有可能是虚假信息，请您谨慎对待，谨防欺诈，对于任何付款行为请您慎重抉择。
投诉方式：fawu@gongchang.com是处理侵权投诉的专用邮箱，在您的合法权益受到侵害时，请将您真实身份信息及受到侵权的初步证据发送到该邮箱，我们会在5个工作日内给您答复，感谢您对世界工厂网的关注与支持！
技术支持：世界工厂网
(c)2008-2025 世界工厂网V3.6 All Rights Reserved 豫ICP备2024066506号
