产品形态：
钨 / 钨钛 / 钨硅靶材，形状可定制
纯度：钨99.95%以上
密度：19.35g/cm3
表面状态：磨光或碱洗
纯度：钨（上至5N）/ 钨钛（上至4N5）/ 钨硅（上至4N5）钨靶材是一种以钨为原料制成的材料，通常用于制造电子器件、真空镀膜等。钨靶材具有高纯度、高密度、高硬度、耐高温等特性，因此在许多领域都有广泛的应用前景。
在电子器件制造中，钨靶材可以用于制造电子管、晶体管、集成电路等。由于钨靶材具有高纯度、高密度等特性，可以保证电子器件的性能稳定性和可靠性。
在真空镀膜中，钨靶材可以作为蒸发源，用于制造各种薄膜材料。由于钨靶材具有高硬度、耐高温等特性，可以保证薄膜材料的性能稳定性和可靠性。
总之，钨靶材是一种具有广泛应用前景的材料，未来随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，钨靶材的需求量也将会不断增加。
注意：靶材的纯度、密度、微观结构、内部质量、焊接质量、外观质量和几何尺寸等对镀膜好坏有着重要的影响。
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