设备简介：
PECVD（等离子增强化学气相沉积）技术是借助于等离子体的辉光放电使得含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜生长的一种制备技术，主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉积；高温炉采用的是高纯硅碳棒加热的原理，可以实现高温烧结，适用于大多数材料的热处理以及熔炼工艺，整体采用国际**制造工艺，并且从美学艺术角度出发，根据人体安全的角度进行设计。它采用PLC控制，触摸屏操作。
主要特点：
1、高温烧结。
2、控制稳定可靠，操作方便，安全防护措施完善。
3、采用**的PID自学习模糊控制，控温精度高，保持在±1℃。
4、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料，保温效果更好，节能降耗。
5、具有物联网功能（WIFI），可通过手机、电脑远程对设备进行监控，操作。
6、数据存储功能，可保存烧结的重要参数，时长达30天之久（每天开机8小时）。
7、配方功能，可预存配方20条以上。
8、联网功能，通过RJ45接口，采用TCP/IP协议，可以让系统与上位机相连（上位机需安装相应软件）。
服务支持：一年有限保修，提供终身支持。
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