生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机(PVD-1000S系列)该设备广泛应用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐磨涂层制备,集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。
可以制备单层膜、多层膜、掺杂膜、金属膜及合金膜、化合物薄膜等。设备结构及性能参数设备由PVD镀膜室、集成封闭机柜、分子泵+旋片泵真空机组、真空测量系统、工艺气路系统、磁控溅射靶、直线型离子源、工件架、靶挡板、工件旋转机构、脉冲直流电源、高能量脉冲电源、中频电源、射频电源、偏压电源、离子辅助镀膜电源及控制系统、检测及报警保护系统、水冷管路系统、循环制冷恒温水箱、计算机+PLC 两级控制系统组成。 - 整机外形尺寸:2500mm X 2500mm X 2000mm。也可根据用户产能规模定制尺寸。- 磁控溅射靶为矩形,靶面尺寸80mm X 300mm,沿真空室壁的圆周排列,可以随时在线调整靶面与样片的距离,靶头伸缩距离150mm。也可根据工件尺寸调整靶面尺寸。- 直线型离子源沿真空室壁的圆周排列,数量两组,工作气压0.1-0.3Pa,能量200-5000eV可调,束流强度0.2-1A。- 工件架为圆筒形结构行星式分布,工件沿圆周排列,每个工位工件既自转又公转。样品装载数量大;旋转运动运行平稳,无抖动;密封可靠。- 工件可加偏压。- 加热系统采用红外加热器,对真空环境无污染,加热均匀;具有PID功能的智能温控仪控制加热功率。工件最高可加热至500摄氏度。设备重点性能参数
极限真空度 | 7×10-5Pa |
工作背景真空度 | 8×10-4Pa |
工作背景真空到达时间 | <30min(空气湿度低于45%;开门时间<30min条件下从大气抽到工作真空度时间) |
保压 | 关机12小时保压<10Pa |
溅射室外形尺寸 | 直径 875mm × 高度 1000mm |
整机尺寸 | 长 2500mm × 宽 2500mm × 高 2000mm |
样品加热温度 | 室温~500℃ |
样品架公转速度 | 0;3~12r/min连续可调 |
片内膜层均匀性 | <5% |
片间膜层均匀性 | <5% |
磁控靶数量 | 4靶(可根据用户工艺扩展靶位) |
直线型离子源 | 2靶 |
磁控靶规格 | 80mm × 300mm |
靶材规格 | 80mm × 100mm × 8mm |
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