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鹏城半导体 供应 生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机

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产品
鹏城半导体 供应 生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机
单价
面议
最小起订
1
供货总量
999
有效期至
长期有效
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企业信息
鹏城半导体技术(深圳)有限公司
实名认证 企业认证
成立年份:
2021年
经营模式:
制造商
企业类型:
企业单位
主营产品:
PVD镀膜设备,磁控溅射,化学气相沉积CVD,HFCVD热丝化学气相沉积,金刚石涂层,电子束蒸镀机,PECVD 等离子体增强化学气相沉积
公司地址:
深圳市南山区桃源街道福光社区留仙大道3370号南山智园崇文园区1号楼
联系方式
电话:
13632750017
手机:
13632750017
邮箱:
84128519@qq.com
地址:
深圳市南山区桃源街道福光社区留仙大道3370号南山智园崇文园区1号楼
产品介绍
是否现货
用途
用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐磨涂层制备,集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备
型号
PVD-1000S系列
有效期至
长期有效
最后更新
2025-02-28 14:12
浏览次数
16

生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机(PVD-1000S系列)该设备广泛应用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐磨涂层制备,集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。

可以制备单层膜、多层膜、掺杂膜、金属膜及合金膜、化合物薄膜等。设备结构及性能参数设备由PVD镀膜室、集成封闭机柜、分子泵+旋片泵真空机组、真空测量系统、工艺气路系统、磁控溅射靶、直线型离子源、工件架、靶挡板、工件旋转机构、脉冲直流电源、高能量脉冲电源、中频电源、射频电源、偏压电源、离子辅助镀膜电源及控制系统、检测及报警保护系统、水冷管路系统、循环制冷恒温水箱、计算机+PLC 两级控制系统组成。           - 整机外形尺寸:2500mm X 2500mm X 2000mm。也可根据用户产能规模定制尺寸。- 磁控溅射靶为矩形,靶面尺寸80mm X 300mm,沿真空室壁的圆周排列,可以随时在线调整靶面与样片的距离,靶头伸缩距离150mm。也可根据工件尺寸调整靶面尺寸。- 直线型离子源沿真空室壁的圆周排列,数量两组,工作气压0.1-0.3Pa,能量200-5000eV可调,束流强度0.2-1A。- 工件架为圆筒形结构行星式分布,工件沿圆周排列,每个工位工件既自转又公转。样品装载数量大;旋转运动运行平稳,无抖动;密封可靠。- 工件可加偏压。- 加热系统采用红外加热器,对真空环境无污染,加热均匀;具有PID功能的智能温控仪控制加热功率。工件最高可加热至500摄氏度。设备重点性能参数

 

极限真空度  7×10-5Pa
工作背景真空度  8×10-4Pa
工作背景真空到达时间  <30min(空气湿度低于45%;开门时间<30min条件下从大气抽到工作真空度时间)
保压  关机12小时保压<10Pa
溅射室外形尺寸  直径 875mm × 高度 1000mm
整机尺寸  长 2500mm × 宽 2500mm × 高 2000mm
样品加热温度  室温~500℃
样品架公转速度  0;3~12r/min连续可调
片内膜层均匀性  <5%
片间膜层均匀性  <5%
磁控靶数量  4靶(可根据用户工艺扩展靶位)
直线型离子源  2靶
磁控靶规格  80mm × 300mm
靶材规格  80mm × 100mm × 8mm 

 

免责声明:当前页为 鹏城半导体 供应 生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机产品信息展示页,该页所展示的 鹏城半导体 供应 生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机产品信息及价格等相关信息均有企业自行发布与提供, 鹏城半导体 供应 生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机产品真实性、准确性、合法性由店铺所有企业完全负责。世界工厂网对此不承担任何保证责任,亦不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷,纠纷由会员自行协商解决。

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工商信息*以下内容来自第三方启信宝提供
法定代表人
刘军
经营状态
存续
注册资本
1063.8298 万人民币
实缴资本
-
统一社会信用代码
91440300MA5H0RXA7M
组织机构代码
MA5H0RXA7
企业注册号
440300214949341
企业类型
有限责任公司
登记机关
深圳市市场监督管理局
成立日期
2021年09月27日
营业期限
2021年09月27日---
核准日期
2022年11月15日
历史名称
哈深半导体技术(深圳)有限公司
注册地址
深圳市南山区桃源街道福光社区留仙大道3370号南山智园崇文园区3号楼304
经营范围
一般经营项目是:技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广;新材料技术研发;新材料技术推广服务;真空镀膜加工;泵及真空设备制造;泵及真空设备销售;电子真空器件制造;电子真空器件销售;半导体器件专用设备制造;半导体器件专用设备销售;半导体分立器件制造;半导体分立器件销售;机械设备租赁;软件开发;工业设计服务;教育咨询服务(不含涉许可审批的教育培训活动);会议及展览服务;广告设计、代理;广告制作;仪器仪表修理;化工产品销售(不含许可类化工产品);新型金属功能材料销售;仪器仪表销售;电子产品销售;通讯设备销售。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动),许可经营项目是:互联网信息服务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动,具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准)