生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机（PVD-1000B系列）该设备采用磁控溅射、离子辅助、反应溅射的工艺方法，在工件表面制备各种薄膜材料。该设备是集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。
可以制备单层膜、多层膜、掺杂膜、金属膜及合金膜、化合物薄膜等。设备结构及性能参数真空室为圆柱形、上开盖、前开门结构；使用材料均为奥氏体不锈钢304/321，表面电化学抛光处理，无微观毛刺，不会藏污纳垢。磁控溅射靶为矩形，沿真空室壁的圆周排列，可调整靶面与工件的距离。样品架为圆筒形，样品装载数量大；旋转运动为齿轮驱动式，动力直连输入，经齿轮驱动样品台转盘旋转，运行平稳，无抖动；密封可靠，故障率低。加热系统采用红外加热器，对真空环境无污染，加热均匀；采用具有PID功能的智能温控仪控制加热功率。电气控制及操作系统工作稳定可靠，操作界面清晰大方，便于操作。系统安全保护设置齐全，设备启动后可实行无人运行。设备重点性能参数
| 极限真空度 | 8X10-5Pa |
| 工作背景真空度 | 8X10-4Pa |
| 工作背景真空到达时间 | ＜40min（空气湿度低于45％；开门时间＜30min条件下从大气抽到工作真空度时间) |
| 样品加热温度 | 室温~300℃ |
| 样品架公转速度 | 3~10r/min连续可调 |
| 片内膜层均匀性 | ＜5% |
| 片间膜层均匀性 | ＜5% |
| 磁控靶数量 | 3靶（可根据用户工艺扩展靶位） |
| 真空清洗离子靶 | 1靶 |
免责声明：当前页为 鹏城半导体 供应 生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机产品信息展示页，该页所展示的 鹏城半导体 供应 生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机产品信息及价格等相关信息均有企业自行发布与提供， 鹏城半导体 供应 生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机产品真实性、准确性、合法性由店铺所有企业完全负责。世界工厂网对此不承担任何保证责任，亦不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷，纠纷由会员自行协商解决。
友情提醒：世界工厂网仅作为用户寻找交易对象，就货物和服务的交易进行协商，以及获取各类与贸易相关的服务信息的渠道。为避免产生购买风险，建议您在购买相关产品前务必确认供应商资质及产品质量。过低的价格、夸张的描述、私人银行账户等都有可能是虚假信息，请您谨慎对待，谨防欺诈，对于任何付款行为请您慎重抉择。
投诉方式：fawu@gongchang.com是处理侵权投诉的专用邮箱，在您的合法权益受到侵害时，请将您真实身份信息及受到侵权的初步证据发送到该邮箱，我们会在5个工作日内给您答复，感谢您对世界工厂网的关注与支持！
技术支持：世界工厂网
(c)2008-2025 世界工厂网V3.6 All Rights Reserved 豫ICP备2024066506号
