氧化锆靶材又称氧化锆陶瓷靶、锆氧靶，是一种高纯氧化物陶瓷溅射靶材，以高纯二氧化锆为原料烧结制备，整体纯度可达99.9%及以上（3N级），成分稳定、致密度高、杂质含量低。靶材密度达5.6克每立方厘米及以上，溅射稳定、膜层均匀致密、与基体结合力良好。作为氧化锆溅射靶材，广泛用于精密光学薄膜制备，如高折射率增透膜、光学滤光片、镜头的红外与防护膜层，提升光学器件的透过率与耐候性；也用于装饰镀膜与功能膜。
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