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光掩模基版 匀胶铬版 空白光罩(小面积)普照牌

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产品
光掩模基版 匀胶铬版 空白光罩(小面积)普照牌
单价
面议
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1
供货总量
999
有效期至
长期有效
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企业信息
湖南普照信息材料有限公司
实名认证 企业认证
成立年份:
2003年
经营模式:
制造商
企业类型:
企业单位
主营产品:
光掩膜基版,匀胶铬版,真空溅射镀膜,光刻涂胶 玻璃抛光,Blank Mask,光学分划板
公司地址:
麓枫路40号
产品目录
全部分类
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传真:
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QQ:
57590145
邮箱:
wh.cai@oim.com.cn
地址:
麓枫路40号
产品介绍
有效期至
长期有效
最后更新
2017-09-23 17:48
适用范围
IC、LCD、PCB、PDP、DOT
型号
3“X3”至9”×9”
品牌
普照
浏览次数
2205


普照信息材料有限公司                        

主营: 光掩膜基版| 匀胶铬版| 真空溅射镀膜| 光刻涂胶 玻璃抛光


普照牌 光掩膜基版 匀胶铬版 空白光罩(小面积)的详细描述:
    
光掩膜基版(匀胶铬版、空白光罩)的详细描述:
     匀胶铬版是一种硬面光掩模材料,即光掩膜基版,它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料(相当于照相用的感光胶卷)。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版,再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。

  光掩膜基版是制作微细光掩膜图形的理想感光性空白板,通过光刻制版工艺可以获得所需光掩膜版。简单地说,光掩膜基版在被刻蚀上掩膜图形之后就成为光掩膜版。

  匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点,当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等产品掩膜版的制作。

免责声明:当前页为 光掩模基版 匀胶铬版 空白光罩(小面积)普照牌产品信息展示页,该页所展示的 光掩模基版 匀胶铬版 空白光罩(小面积)普照牌产品信息及价格等相关信息均有企业自行发布与提供, 光掩模基版 匀胶铬版 空白光罩(小面积)普照牌产品真实性、准确性、合法性由店铺所有企业完全负责。世界工厂网对此不承担任何保证责任,亦不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷,纠纷由会员自行协商解决。

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法定代表人
王佳悦
经营状态
存续
注册资本
10596.53 万人民币
实缴资本
10596.53 万人民币
统一社会信用代码
91430000750635048C
组织机构代码
750635048
企业注册号
430000000023883
企业类型
有限责任公司(非自然人投资或控股的法人独资)
登记机关
湖南省市场监督管理局
成立日期
2003年08月08日
营业期限
2003年08月08日---
核准日期
2023年02月15日
注册地址
长沙市岳麓区麓枫路40号
经营范围
电子专用材料制造;工程和技术研究和试验发展;新材料技术推广服务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)