考夫曼离子源

日本伯东株式会社，成立于1953 年，全球范围内有一千七百名员工。伯东企业(上海)有限公司系日本伯东株式会社在中国投资的全资公司，公司主要从事半导体设备、电子零部件等加工、销售及相关服务工作，集团年营业额约为100亿人民币。伯东企业（上海）有限公司的总部在上海，同时在中国的北京、苏州、广州、深圳、成都及厦门都设有办事机构。

伯东企业(上海)有限公司真空产品事业部销售众多国际知名真空品牌，代理品牌包含：德国 Pfeiffer 全系列真空产品、美国 KRI 考夫曼离子源、美国 BROOKS  Polycold 制冷机，美国HVA真空阀门，美国 inTEST温度气流控制设备，日本 NS 离子蚀刻机，真空镀膜系统及配套真空零配件等。

上海伯东作为众多国际知名真空品牌指定授权代理商，负责在中国地区的销售同时提供完善的售后维修服务。公司在上海，深圳及厦门等全国重要区域都设有我们产品的销售和维修中心，可为广大客户提供全系列产品的维护及保养服务工作，****使用原厂进口零件以及国外受训维修工程师；拥有完全的拆解，维修，校正能力并提供24小时在线服务。

上海伯东是美国考夫曼公司 KRI 离子源大中华地区总代理,离子源发明人 Dr.Kaufman 考夫曼博士1960 年发明离子源并将此专利授权 VEECO 生产,1978 年 Dr.Kaufman 博士在美国自行创立考夫曼公司Kaufman & Robinson.Inc (KRI) 生产离子源.2014年 VEECO宣布关闭旗下离子源部分生产工厂

美国考夫曼公司 KRI 离子源历经 30 年改良及发展已取得多项专利,型号包含考夫曼离子源Gridded Ion Beam Source;霍尔离子源 Griddless Ion BeamSource.美国考夫曼公司 KRI 离子源广泛应用于友厂,如德国普发 Pfeiffer Vacuum Classic镀膜机,龙翩真空 Lung Pien 镀膜机,4Wave离子刻蚀机等.

美国考夫曼公司 KRI 离子源主要优点:
考夫曼离子源:高离子能量低离子浓度,离子抨击能量强,蚀刻效率快,可应用多种基材,单次使用长久,耗材成本极低,操作安装简易.
霍尔离子源:高离子浓度低离子能量,离子束涵盖面积广,镀膜均匀性佳,模块化设计,增加光学膜后折射率,操作安装简易.

美国考夫曼公司 KRI 离子源主要应用于
1.光学镀膜 OC（Optical Coating ）
  推荐霍尔离子源 eH 200,eH 400,eH 1000,eH 5000F
2.离子源助镀 IBAD (Ion Beam Assisted Deposition)
  推荐霍尔离子源 eH 1010F,eH 1020F
3.离子溅镀 IBSD (Ion Beam Sputter Deposition)
  推荐考夫曼离子源 RFICP 40,RFICP 100,RFICP 300;KDC 10,KDC40,KDC 75
4.离子刻蚀 IBE (Ion BeamEtching)

考夫曼离子源 RFICP 40,RFICP100,RFICP 140,RFICP 200,RFICP 300

上海伯东依据客户实际需要提供完整真空应用解决方案,如真空泵选型销售（德国普发 Pfeiffer机械泵,分子泵;美国 Polycold 低温泵）,真空系统检漏(德国普发 Pfeiffer氦质谱检漏仪),真空阀门选配（美国 HVA 超高真空阀门,德国普发 Pfeiffer真空阀门）,蒸镀源选型（美国考夫曼公司 KRI离子源）等等.

上海伯东主要经营产品：德国普发 Pfeiffer涡轮分子泵,干式真空泵,罗茨真空泵,旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空计,真空规管;氦质谱检漏仪,质谱分析仪,四级杆质谱仪;以及美国 HVA 真空阀门, Polycold冷冻机,Gamma 离子泵和美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪霍尔源

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：

上海伯东：叶小姐                   台湾伯东：林先生
T: +86-21-5046-3511 ext 109        T: +886-3-567-9508 ext 168
F:+86-21-5046-1490                F: +886-3-567-0049
M: +86               M: +886-0911-827-583

ec@hakuto-vacuum.cn