兆（超）声清洗台

信息来源：江苏英思特半导体科技有限公司

制程应用:显影制程，蚀刻（微蚀刻）制程，去光阻清洗制程

              去蜡（胶）清洗制程，精密清洗制程，光罩去光阻清洗制程

控制模式：手动控制模式，自动控制模式

                        项目                                                                            数据

适用对象：硅晶片       2-12inch   25Pcs/cassette          1cassette/Batch  Or  2assette/Batch

                 蓝宝石晶片    2-8inch   25Pcs/cassette        1cassette/Batch  Or  2assette/Batch

                 砷化镓晶片    2-6inch   25Pcs/cassette        1cassette/Batch  Or  2assette/Batch

                 锗晶片        2-6inch   25Pcs/cassette           1cassette/Batch  Or  2assette/Batch

                 碳化硅晶片    2-8inch   25Pcs/cassette        1cassette/Batch  Or  2assette/Batch

                 磷化铟晶片    2-4inch   25Pcs/cassette        1cassette/Batch  Or  2assette/Batch

                 石英晶片      2-6inch   25Pcs/cassette          1cassette/Batch  Or  2assette/Batch

基本规格：机台封面           聚丙烯磁白PP板材（厚度≧10mm）Or  China SUS板材（厚度≧2mm）

                 机台主机强度结构   整体骨架表面喷涂处理  Or  China SUS矩形材（厚度≧2mm）

                 机台视窗          透明、抗静电之聚氯乙烯PVC（厚度≧5mm） Or  China 钢化玻璃（厚度≧5mm）

选配模块：1.腐蚀液恒温系统  2.腐蚀液循环过滤系统  3.超（兆）声系统  4.全自动供液系统

                 5.消防系统   6.可结合客户端通讯协定资料储存、CIM系统、资料分析储存建立管理

机械臂装置：Robo的工艺路径种类   N种（设备出厂前载入PLC内）

                    机械手传送定位精度    ≦ 0.3mm   

                    机械手传动预估速度    垂直升降速度不小于4000mm/min,水平移动速度不小于6000mm/min

                    机械臂走向            前后位移一对一

                                                  转向、前后、左右、上下位移一对四

                                                 全程转向左右、前后、上下位移一对多槽等

设备制造：江苏英斯特半导体科技有限公司