TRYMAX 等离子除胶机
型号:NEO系列
TRYMAX
亚科电子的合作伙伴Trymax公司于2003年在荷兰成立,该公司主要提供半导体等离子清洗、去胶、活化设备。
Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择,目前已有上百台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、**封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域。
一、设备工作原理
等离子体是物质的一种存在状态,该状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。
Trymax NEO Series就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频/微波电源在一定的真空条件下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
二、Trymax NEO Series 应用
前道:Light Etching;Descum strip;PR Ashing;离子注入后,光刻后,镀膜前等工艺过程; 后道/**封装/3D IC:Descum Bumping;MEMS;Plasma Treatment;Wafer Cleaning等。
NEO3000产品系列是Trymax半导体设备行业**的NEO系列**等离子灰化和蚀刻产品的**成员之一。
它可以满足**产量,适应每个生产阶段和预算。 NEO 3000系统可配置任何现有的Trymax NEO工艺模块,并与直径达300mm的基板兼容。小尺寸和模块化设计可根据您的需要灵活配置。
•特征
- zui大300毫米晶圆尺寸/基板尺寸
-2或3个SMIF装载机
-5轴双臂机器人处理
-4个不同的处理模块:
•下游微波(2.45 GHz)
•射频偏压(13.56MHz)
•双源(微波,射频偏压)
•DCP(RF偏置,直接耦合等离子)
- 优异的均匀性和可重复性
- 机械吞吐量> 220wph
- 紧凑的足迹
- 非常低的拥有成本
- 完全数字控制,Devicenet以太网
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