技术参数：
1、处理气量： 5~500Nm³/h
2、纯化后氩气纯度 99.9995%
纯氩技术要求应符合下表的规定符合：GB/T4842-2006
项目 | 原料气指标 | 纯氩指标 | 纯化后指标 |
氩气纯度(体积分数)/10-2 | 99.99% | 99.999% | 99.9995% |
氢气含量(体积分数) ≤ ppm | 5 | 1.0 | 0.5 |
氧气含量（体积分数）≤ ppm | 10 | 1.5 | 1.0 |
氮含量（体积分数）≤ ppm | 50 | 4 | 2 |
烃类含量（体积分数）≤ ppm | 20 | 1 | 0.5 |
水份含量（体积分数）≤ ppm | 15 | 3 | 2.0 |
装置特点：
1. 净化则采用了世界**的净化材料。其特点有吸附深度好，吸收杂质气体量大的特点，纯度可达99.9999%以上。2. 并安装了小于0.1μ的金属过滤器。保证了气体粉末的要求。
本装置的阀门采用国内外专业阀门公司的**产品，保证了产品的高纯度无渗透及安全可靠性。4. 设备中全部容器、管道、阀门均为不锈钢材质。5. 设备中全部选用我公司跟踪国际**水平而研制的净化材料，具有净化深度好、安全可靠、可反复再生的特点。6. 设备中的主要控制仪表全部采用国内外**产品。7. 接头采用**的高纯接头,保证了无渗透。8. 外观设计采用国际流行颜色及形式,使产品更美观。高纯氩气主要用途：用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。 氩气纯化装置是针对需要使用超高纯度氩气的客户而设计的。
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