设备简介：
流化床化学气相沉积（Fluidized Bed Chemical Vapor Deposition, FBCVD）技术的三温区立式管式炉。FBCVD技术是在炉内的流化床区域内进行，其中固体颗粒在上升的气体流作用下呈现类似于液体沸腾的状态，这样不仅能够增加物料与反应气体的接触面积，还能够促进均匀受热和反应物质的高效转化，常用于制备薄膜、粉末等各种材料。此设备除了具备普通三温区管式炉的基本特征外，还针对流态化反应进行了优化设计，例如强化气体流动和分布、确保流化床区域的稳定流态化状态等。在实际应用中，它可以用于碳纳米管、石墨烯等**材料的生长，以及催化剂的制备和改性等领域。
设备特点：
1、高温烧结。
2、控制稳定可靠，操作方便，安全防护措施完善。
3、采用**的PID自学习模糊控制，控温精度高，保持在±1℃。
4、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料，保温效果更好，节能降耗。
5、具有物联网功能（WIFI），可通过手机、电脑远程对设备进行监控，操作。
6、数据存储功能，可保存烧结的重要参数，时长达30天之久（每天开机8小时）。
7、配方功能，可预存配方20条以上。
8、联网功能，通过RJ45接口，采用TCP/IP协议，可以让系统与上位机相连（上位机需安装相应软件）。
服务支持：一年有限保修，提供终身支持
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