HMDS真空干燥箱
用途概述
HMDS真空干燥箱，即HMDS真空镀膜机或叫HMDS基片预处理系统，指需在低真空度下进行的镀膜。
智能型HMDS真空干燥系统通过对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间
等参数的控制可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭
的环境中进行，完全没有HMDS挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、
玻璃、蓝宝石、晶圆等材料，为基片在涂胶前改善表面活性，增加光刻胶与基底的粘附力的设备，也可用
于晶片其它工艺的清洗，尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及。
产品特点
※采用PLC工控自动化系统，人机界面采用触摸屏，具有可靠性高，操作智能方便。
※PLC微电脑PID控制系统具有自动控温、定时、超温报警等,彩色触摸屏显示,控温可靠；
※智能化触摸屏控制系统，可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间；
具有双层高强度钢化玻璃观察窗，监测方便，一体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内密封真空度高；
外壳和加热管均采用不锈钢材质，内胆316L不锈钢且无任何电气配件及易燃易爆装置，无发尘材料；
以蒸汽的形式涂布到晶片表面，液态涂布均匀，可一次处理4盒以上的晶片，节省药液，工作效率高；
去水烘烤和增粘（疏水）处理一机完成无需转移，有效规避HMDS泄露的风险；
HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，使真空箱密封性好，确保HMDS气体不外漏；
多余的HMDS蒸汽（尾气）由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道，确保安全以及环保。
技术参数：
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型号 |
TDM-6040 |
TDM-6090L |
TDM-6210L |
TDM-6520L |
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电源电压 |
AC 220V 50Hz |
AC 220V 50Hz |
AC 220V 50Hz |
AC 380V 50Hz |
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控制系统 |
PLC控制 |
PLC控制 |
PLC控制 |
PLC控制 |
|
控温范围 |
RT+10-250℃ |
RT+10-250℃ |
RT+10-250℃ |
RT+10-250℃ |
|
温度分辨率 |
0.1℃ |
0.1℃ |
0.1℃ |
0.1℃ |
|
温度波动度 |
±0.5 |
±0.5 |
±0.5 |
±0.5 |
|
真空度 |
≤133pa |
≤133pa |
≤133pa |
≤133pa |
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洁净度 |
class 100 |
class 100 |
class 100 |
class 100 |
|
输入功率 |
|
3000W |
4500W |
|
|
内胆尺寸 |
350*350*350 |
450*450*450 |
550*550*650 |
800*800*800 |
|
容积 |
40L |
90L |
210L |
520L |
|
载物托架 |
2片 |
2片 |
3片 |
3片 |
|
真空泵 |
2L/S |
2L/S |
4L/S |
4L/S |
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